Дранчук С. Н., Мокрицкий В. А., Романенко В. Н., Каримов Р. Х., Умурзаков Т. П.
В данной научной монографиии, представлены результаты решения задач по теории явлений массопереноса, протекающих при жидкофазной эпитаксии слоев полупроводниковых материалов. Часть задач впервые решена применительно к эпитаксии способов принудительного охлаждения раствора-расплава, ограниченного двумя горизонтально расположенными подложками. Полученные данные использованы для управления толщиной, структурными и другими свойствами слоев на примере соединения типа А3В5.
Развитие и усовершенствование базы твердотельной электроники требует раширения как ассортимента, так и диапазона значений параметров полупроводниковых материалов. Традиционные промышленные метометоды получения их объемных монокристалллов не могут в полной мере удовлетворять таким требованиям ввиду недостаточной управляемости процессами выращивания слитков. С этой точки зрения от них выгодно отличаются методы ориентированного наращивания (эпитаксия) слоев полупроводниковых материалов.
Процессы эпитаксии, свойства получаемых слоев, зависят от большого чистла взаимосвязанных факторов, что затрудняет их промышленное применение. Развитие теории этих процессов, установление закономерностей роста и их связи с методическими условиями-путь к разработке способов эпитаксии , гибких в управлении свойствами слоев. По мению авторов, песпективными в этом отношении являются методы жидкофазной эпитаксии. Это обусловлено главным образом такими ее возможностями, как широкий диапазон значений скоростей роста, тощины (от единиц до сотен микрометров) и уровня легирования слоев различными примесями. Кроме того, оборудование для жидкофазной эпитаксии отличается простотой и производительностью.
Развитию метода жидкофазной эпитаксии препятствует известная сложность физико-химического процесса взаимодействия фаз. В первую очередь это относится к явлениям массопереноса в жидкой фазе.
Основной целью книги является решение задач по теории массопереноса и использование полученных результатов для управления свойствами слоев при жидкофазной эпитаксии.
Ташкент, изд-во «Фан», 1987. - 56 с. 25 илл.